国内虽然已经完成了光刻机的生产，但在它的性能与技术上还落后于西方发达国家，还需要不断的提高提高光刻机性能的关键技术是它未来发展的重点，这种机器将图形从掩膜上复制到硅片是的主要参数决定了它的性能。现在市场上的光刻机三大性能参数是光刻分辨率和套刻精度以及产率，但在未来这些参数已经不能满足市场的需要，要对它的光刻技术步入更小的节点，会提高它的精确度，它的产率也需要进一步提高，只有这样才能提高集成电路制造厂商的经济效益。

　　光刻机生产厂家要做到未雨绸缪，在生产线有关和街道前提下，还要对下一代光合技术进行研究，现在大规模的集成电路生产主流，光合技术仍然是光系列光刻技术单随着它的高速发展季末时光刻技术的出现，会使光学光刻技术延伸到45微米甚至更小的节点以内，根据科学人员的预测，下一代光刻技术的主要候选者，应该是机子外光刻技术和纳米压印技术，以及无掩膜的光刻技术。

　　现在那些性能比较先进的光刻机已经使用了紫外光刻技术，这种技术在世界范围内也备受关注，它是有可能实现量产化要求的一种技术，它使用波长为13.5的紫外光，能完成对很多电子元件的生产，而且所有材料对这个波段的光都有很强的吸收能力，但现在这种技术的研究还面临着一些难题，低缺陷密度掩模的制备，高输出功率、长寿命紫外光源的研发，反射式投影光学系统中污染的有效控制等问题都没有得到有效的解决，想让它实现量产还需要等待一段时间。

　　国内的光刻机虽然起步比较晚，但专业人才很多，一直在努力研发，载德半导体技术有限公司是国内出产光刻机的重要厂家，技术水平处于同行业的前列，有自己的研发团队，他们出产的光刻机获得了客户的认可，对紫外光刻技术有了深了的研究，等这种技术实现量产以后，光刻机的新潮流，会带动整个行业有大的发展。光刻机未来发展可期，是值得人们努力研究和开发的一个行业，有着美好的未来与明天，是以后几十年发展的高科技重心，它的应用与推广能为社会创造更多的价值与财富，也会能科学技术的发展注入新的力量。